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ITO蚀刻膏新老工艺对比

来源:莱源科技    发布时间:2017/4/13 10:09:43   点击量:

ITO蚀刻膏新老工艺对比
  干法蚀刻膏是生产电子产品电路板表面的导电膜进行刻蚀的新工艺,适用于氧化锌膜、氧化锡膜、氧化铟锡(ITO)膜的蚀刻,新工艺简化生产流程,提高了生产效率和工人积极性,具备无气味、环保、作业场地清洁等特点。
  干法蚀刻膏适用于液晶显示器、电子触摸屏、太阳能电池、手机、电视机、游戏机以及LED等电子产品电路板表面的导电膜刻蚀。
  1、传统工艺用耐酸油墨流程(七道工序):
  丝印(耐酸油墨)→晾干→酸液(强酸)浸泡(浸泡腐蚀未被耐酸油墨覆盖的氧化锌、氧化锡及氧化铟锡导电膜)→过清水清洗→碱水(强碱)浸泡清洗(除去耐酸油墨)→初步水洗→纯净水清洗机清洗。
  该工艺的主要缺点是:
  (1)在生产过程中使用强酸和强碱,产生强烈的刺激性气味,腐蚀性强,污染环境、危害操作工人的健康、腐蚀设备。
  (2)工艺复杂、生产周期长,良品率难提高,每一个工序的要求苛刻,如:对酸碱度的调控要求较严,难于控制。
  (3)工艺流程不够紧凑,耐酸油墨印刷后,可以无限期的延长放入强酸浸泡的时间,影响生产效率。
  2、新工艺用干法蚀刻膏流程(四道工序):
  丝印(刻蚀膏)→烘烤(60℃--160℃)-→初步水洗→纯净水清洗机清洗。
  从以上流程可知:
  1、干法蚀刻膏的蚀刻工艺与传统的刻蚀工艺刚好相反,省去了酸碱浸泡工序,避免了浸泡过程中强酸和强碱对需保留的导电膜的损伤,提高了产品的刻蚀质量,简化工艺流程;同时无需使用有机溶剂从而免去有机溶剂给操作者带来的伤害,积极性得到提高,具有高效、快捷、环保、省时、节水的工效。
  2、烘烤工序中,烘烤温度和时间决定刻蚀质量和速度重要的一环,温度通常控制在60℃-160℃。
  3、提高了工作效率,促使在蚀刻工艺中科学、及时、有序、合理地组织生产。
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